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半导体超纯水系统工艺介绍

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颁布功夫：2024-02-27 10:54

半导体超纯水系统工艺介绍

超纯水要求尽可能去除水中的离子DO(溶化氧)TOC(总有机碳)等杂质 ，使其成分无限趋近于100%的水分子 ，25℃时理论电阻率可达18.3Mcm]以利用于对水质纯度要求极高的场所。在半导体产品出产过程中 ，超纯水重要用于洗濯各类产品 ，其水质对产品质量、机能会产生沉大影响 ，不变的超纯水系统成为半导体产线不成或缺的配套系统之一。

目前 ，在半导体行业得到宽泛利用的超纯水造备技术重要有离子互换法和电去离子法(EDI)其中离子互换法重要通过离子互换树脂吸附水中的阴、阳离子 ，提高电阻率 ，同时配置去除DO、降解 TOC的装置 ，该工艺拥有造备水量大、出水水质不变、工艺成熟、运行不变、操作难度低、运行成本低蹬着点。

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离子互换法是超纯水系统常用的2种成熟工艺路线之一 ，已在电子、医药、化工等行业超纯水造备系统中得到宽泛利用 ，也是最适合本项目需要的工艺路线。上海3868la银河总站将从设计和设备配置 ，各系统设备造价组成、重要设备造价组成3个方面分析了项目造价情况:设备是影响资料部门造价的重要成分 ，占比靠近50%;半导体超纯水造备系统主题资料仍以进口为主抛光系统和MAKEUP系统设备是设备总造价的绝对主体 ，占比靠近70%;TOC-UV、树脂、脱气膜价值昂贵 ，计算占设备总造价比例靠近60%。本项目工艺设计、造价信息可供类似项目参考。

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