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光伏/半导体超纯水设备设计特点
一、设备简介
半导体超纯水设备是利用于半导体出产零件洗濯的超纯水设备,必要切合特定的用水水质尺度,半导体超纯水设备出水水质要切合美国ASTM纯水水质尺度、中国电子工业电子级水质技术尺度(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半导体工业用纯水指标、集成电路水质尺度。上海3868la银河总站在满足用户用水尺度的基础上,在纯水设备系统中水箱均设有液位节造系统、水泵均设有压力;ぷ爸谩⒃谙咚始觳饨谠煲潜怼⒌缙∪LC可编程节造器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上选取推荐和客户要求统一的步骤,使设备与其它同类产品相比力,拥有更高的性价比和设备靠得住性。

二、设计尺度及凭据
1. 凭据用户提供的具体水质汇报“量身定造”。
2. 水处置设备技术前提《JB/T 2932-1999》
3. 反渗入水处置设备尺度《CJ/T119-2000》
4. 低压开关设备和节造设备成套装置《IEC439-1 》
5. 尝试室超纯水技术指标尺度《GB6682-2008 》
6. 国度电子级超纯水规格《GB/T11446.1-1997》
三、工艺流程
1、 原水-原水加压泵-多介质过滤器-活性炭过滤器-软水器-精密过滤器-第一级反渗入-PH调节-中央水箱-第二级反渗入-纯化水箱-纯水泵-EDI系统-超纯水箱-纯水泵-抛光装置-终端超滤-用水点
四、设计特点
1. 系统选取全自动节造(同时亦可选取手动节造),系统运行时可设定自动反洗、再生法式;
2. 各单元接线均在工厂内统一实现,削减装置调试功夫;
3. 一级反渗入和二级反渗入设有回流管路,反渗入设备设有化学洗濯装置;
4. 管路通常选取UPVC材质;
5. 集成节造系统和集成仪表系统等,方便操作治理;
6. RO膜按时洗濯 拥有开机和按时洗濯RO膜职能,耽搁RO膜使用寿命;
7. 水回收率 通过特殊的工艺设计,大幅提高了设备的回收率,最高可达70%;
8. 设备拥有耗材更换自动提醒职能,并且耗材的更换周期取决于水质和压力的变动,而非凭据耗材的使用功夫,思考到了各地水质的差距,设计更科学;
9. 自我;ぶ澳 源水缺水自动;;ぶ澳芡庇涤兴淙彼远⒙远;澳。
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